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項目研制
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磁場輔助批量化拋光設備
磁場輔助批量化拋光設備
功能介紹

該(gai)系(xi)(xi)列設(she)備為(wei)高(gao)(gao)精(jing)度批(pi)量(liang)化(hua)(hua)拋光(guang)設(she)計(ji)的(de)智(zhi)能化(hua)(hua)設(she)備，適用于金屬制樣、異形金屬工件(jian)(醫療器械、模具(ju)、高(gao)(gao)端(duan)刀(dao)具(ju))及小型(xing)光(guang)學玻璃元件(jian)的(de)表面處理。設(she)備采用模塊化(hua)(hua)設(she)計(ji),集(ji)成智(zhi)能控制系(xi)(xi)統與磁場輔助批(pi)量(liang)化(hua)(hua)拋光(guang)工藝,滿足實驗(yan)室及加(jia)工車間(jian)的(de)高(gao)(gao)效、高(gao)(gao)精(jing)度需求。

【設備亮點】

1.創新技術

※可實現曲面元件批量拋光且同步達到納米級表面粗糙度與微米級保形精度的技術。

※可同時拋光幾(ji)十甚至數(shu)百件工件。

2.應用領域廣泛

※用于金屬制樣、醫療器械(手術器械/植入物)、高端刀具(硬質合金刀具)、光學元件(鏡片(pian)/光學(xue)模具(ju))、航空航天(tian)、半(ban)導體及(ji)奢(she)侈品制造(zao)等高端領(ling)域。

※根(gen)據(ju)客(ke)戶的具體需求提供定(ding)制(zhi)化方案。


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郵箱lzzkkh@licp.cas.cn
電話蔣工：13609382552
電話王工：15117025700
技術指標
單軸拋光系統MAMP-100
拋(pao)光工(gong)件類(lei)型(xing)尺(chi)寸（mm）重量（Kg）電功率（W）
單面工件拋光500*400*600651000
電機轉(zhuan)速（RPM）額定轉矩(ju)（Nm）工作溫(wen)度(du)（℃）工作(zuo)濕度（％）
0-20004.770-405-90


雙軸拋光系統MAMP-2-150
拋光工件類型尺寸（mm）重量（kg）電機功率
回轉類工件(jian)拋光(guang)500*400*10001001000/750
電機轉速（RPM）額定轉(zhuan)矩（Nm）工作(zuo)溫度（℃）工作濕(shi)度(du)（％）
0-2000/0-30004.77/2.40-405-90